半導(dǎo)體晶片的高清潔度清洗方式是什么?用超聲波清洗設(shè)備試試

半導(dǎo)體晶片超聲波清洗機(jī)是一種專業(yè)的半導(dǎo)體晶片清洗設(shè)備，廣泛應(yīng)用于IC生產(chǎn)和半導(dǎo)體元件生產(chǎn)中晶片的濕法化學(xué)工藝。可有效去除晶片表面的有機(jī)物、顆粒、金屬雜質(zhì)、天然氧化層和石英。塑料等附件的污染物，不會(huì)破壞芯片的表面特性。

半導(dǎo)體晶片超聲波清洗機(jī)發(fā)展背景

超聲波清洗的目的主要是去除半導(dǎo)體晶片/晶圓表面的污染物，如顆粒、有機(jī)物、無機(jī)金屬離子、氧化層等雜質(zhì)。半導(dǎo)體晶片/晶圓表面吸附雜質(zhì)的主要原因是晶片/晶圓表面原子的化學(xué)鍵斷裂，形成懸空鍵，在表面形成自由力場，便于吸附各種雜質(zhì)。這些雜質(zhì)很快與硅形成化學(xué)吸附，難以去除。

超聲波清洗機(jī)清洗半導(dǎo)體晶圓具有以下特點(diǎn)：

1、機(jī)械手或多機(jī)械手組合，達(dá)到工位工藝要求。

2、PLC全程序控制和觸摸屏操作界面，操作方便。

3、全封閉外殼，保證良好的清潔環(huán)境。

4、具有多種清洗功能，保證清洗均勻。